Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://evnuir.vnu.edu.ua/handle/123456789/22465| Назва: | Хітозан для осадження дисперсії діоксиду силіцію |
| Автори: | Будішевська, О. Юринець, І. Черкас, Ю. |
| Приналежність: | Національний університет «Львівська політехніка», м. Львів, Україна |
| Бібліографічний опис: | Будішевська О.,Юринець І.,Черкас Ю. Хітозан для осадження дисперсії діоксиду силіцію / О. Будішевська, І. Юринець, Ю. Черкас // Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології: матеріали ІІІ Міжнародної наукової конференції (Луцьк, 1-3 червня 2023 року). Луцьк, 2023. С.133-134 |
| Конференція/захід: | Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології |
| Дата публікації: | 2023 |
| Дата внесення: | 21-чер-2023 |
| Видавництво: | Терен |
| Країна (код): | UA |
| Місце видання, проведення: | Луцьк |
| Діапазон сторінок: | 133-134 |
| URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | https://evnuir.vnu.edu.ua/handle/123456789/22465 |
| Тип вмісту: | Conference Abstract |
| Розташовується у зібраннях: | Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології, 2023 |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 133-134.pdf | 131,89 kB | Adobe PDF | Переглянути/відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.